邁進埃時代:英特爾公布野心路線圖 意圖2025年重回領先地位
算機芯片廠商英特爾正在重新構想半導體創(chuàng)新的愿景。今天,英特爾公布了公司有史以來最雄心勃勃的路線圖。英特爾表示,新的芯片和封裝技術將幫助英特爾在2025年之前重新奪回處理器市場的領導地位。
英特爾公司首席執(zhí)行官Pat Gelsinger今天在Intel Accelerated大會上表示,未來英特爾的產(chǎn)品創(chuàng)新將不再采用之前以納米進行命名的慣例,相反會采用一種新的命名方法,Gelsinger稱其將“更準確地反應整個行業(yè)的工藝節(jié)點”。
他在這次大會直播中表示:“我們正在加速創(chuàng)新路線圖,確保我們有一個清晰的路線在2025年之前實現(xiàn)制程性能的領先。我們正在利用無與倫比的創(chuàng)新渠道來提供從晶體管到系統(tǒng)級的技術變革。我們將堅持不懈地追求摩爾定律和利用硅的魔力引領我們的創(chuàng)新之路。”
新的命名方案意味著英特爾第三代10納米芯片將被命名為“Intel 7”。盡管乍一看,似乎是英特爾以一種簡單直白的方式把自己即將推出的10納米芯片矛頭直接對準了競爭對手的7納米產(chǎn)品,但有分析師表示事實并非如此。
眾所周知,英特爾10納米芯片或多或少與AMD的7納米芯片是相提并論的,因為兩者都采用了類似的生產(chǎn)技術并且晶體管密度也比較接近。
Moor Insights & Strategy分析師Patrick Moorhead認為:“英特爾在節(jié)點命名上比臺積電和三星更坦誠?紤]到臺積電和三星的命名方式,我認為英特爾的做法是更公平和可信的。目前還沒有行業(yè)標準方法來對這些節(jié)點進行對比。”
英特爾表示,預計很快將推出Intel 7產(chǎn)品,之前預覽的Alder Lake處理器將于2021年底用于消費級產(chǎn)品中,Sapphire Rapids數(shù)據(jù)中心芯片將于2022年推出,這些芯片都是英特爾10nm SuperFin——第二代10納米硅芯片——的下一代。
今天英特爾表示,Intel 7的每瓦性能將提高10%至15%。如果硬件制造商選擇不追求額外性能的話,Intel 7還可以提供更高的能效和更長的電池壽命。
英特爾路線圖上的第二個新產(chǎn)品是Intel 4,如果是按照舊命名方式的話該架構應該是7納米制程工藝。此前英特爾不得不把該芯片的發(fā)布時間從最初的2021年推遲到2023年,使其聲譽遭受了巨大的損失,但是現(xiàn)在,應該正在重新回到軌道上來。
Intel 4將是下一個重大的技術飛躍,將采用極紫外光刻(EUV)技術來制造處理器,目前英特爾競爭對手三星和臺積電的5納米產(chǎn)品中都已經(jīng)采用了該技術。
英特爾表示,Intel 4的每平方毫米晶體管密度大約是2-2.5億個,而臺積電當前5納米節(jié)點上的晶體管密度約為每平方毫米1.713億個,這將使得每瓦性能比當前這一代提高約20%。英特爾定于明年下半年量產(chǎn)Intel 4,首批產(chǎn)品預計將在2023年上市銷售。
英特爾路線圖上下一個產(chǎn)品是Intel 3,它將采用和Intel 4相同的架構,但提供了各種優(yōu)化以提高性能。英特爾將在2023年下半年投產(chǎn)Intel 3芯片,預計采用該芯片的產(chǎn)品將在2024年上市。
繼續(xù),事情就開始變得有趣了。英特爾表示,將進入所謂的芯片設計“埃時代”(Ångstrom Era。埃是小于納米的測量單位,20埃等于2納米。Intel 20A將成為第一個以埃為單位測量的芯片,采用名為RibbonFET的全新架構。
Gelsinger說,這是一種全新的晶體管技術,可以實現(xiàn)更高的密度和更小的尺寸,還將采用一種“PowerVia”技術,讓硅晶片可以從芯片背面供電,而不是從晶圓正面進行布線。
Gelsinger在大會期間表示,2024年開始提高產(chǎn)品的時候,高通將成為首批使用英特爾Ångstrom 20A工藝服務的客戶之一。
英特爾還展望了Intel 20A的下一代,據(jù)稱Intel 18A有望在2025年初開始生產(chǎn),該芯片將對RibbonFET進行改進,帶來晶體管性能的又一重大提升。Intel 18A芯片將采用下一代High NA EUV技術進行生產(chǎn)制造。
Pund-IT分析師Charles King表示,需要注意的是,納米工藝術語只關注半導體設計的一個方面,并不能準確反映芯片新技術的創(chuàng)新和改進。
“對于客戶和最終用戶來說,最重要的是穩(wěn)定、可靠地交付新的和改進的硅芯片功能。如果英特爾能夠兌現(xiàn)Gelsinger有關Intel 20A的承若,那么英特爾應該可以繼續(xù)保持長期的市場領先地位,并重新獲得半導體開發(fā)和制造領域領先創(chuàng)新者的地位。”
Constellation Research分析師Holger Mueller表示,當然有重要的一點需要記住,那就是英特爾仍然落后于競爭對手,因此很難在短期內(nèi)取得領先。“很高興看到英特爾能夠腳踏實地,將未來幾年的規(guī)劃仍然落點在10納米上。另一方面,如果競爭對手的7納米芯片展現(xiàn)出更高的效率,那么短期來說英特爾就會面臨更大的壓力。”
英特爾能否迎頭趕上并且重新占據(jù)半導體領域的領先地位,這還有待觀察,而且很大程度上要取決于英特爾要避免10納米和7納米工藝制程的延遲,不過從今天英特爾公布的雄心勃勃的計劃中我們可以清楚地看出,英特爾是不會不戰(zhàn)而退的。
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